Брошюра

Программа в виде брошюры доступна для скачивания здесь.

Пленарные лекции

А. А. Малыгин. С. И. Кольцов – главный создатель метода молекулярного наслаивания (презентация)

Ю. С. Кольцов. Прикладные аспекты метода молекулярного наслаивания (презентация)

А. А. Малыгин. Коммерциализация нанотехнологии молекулярного наслаивания в России (презентация)

В. А. Быков, Ан. В. Быков, Ю. А. Бобров, В. В. Котов, С. И. Леесмент, В. В. Поляков. Сканирующая зондовая микроскопия и спектроскопия для исследований наноструктур

A. M. Markeev, A. G. Chernikova, M. G. Kozodaev, D. Kuzmichev, A. Koroleva, R. I. Romanov, I. Zabrosaev. Atomic layer deposition for microelectronics applications: the cases of resistive switching and ferroelectric memory (презентация)

Sarai García, Eneko Azaceta, Olatz Leonet, Mikel Beltrán, Iñaki Gómez, Andrey Chuvilin, Aroa R. Mainar, J. Alberto Blazquez, Mato Knez. Atomic layer processing of particles with a fluidized-bed reactor as an effective way to enhance the energy density of Li–S batteries

Seung Keun Song, Jung-Sik Kim, Hannah R. M. Margavio, Gregory N. Parsons. Simultaneous adjacent thin film deposition and etching

Азиз И. Абдулагатов. Атомно-слоевое осаждение и термические превращения алюминий-ванадиевых оксидных тонких пленок

Е. А. Соснов. МН + СЗМ = ? О возможности создания гибридной нанотехнологии (презентация)

В. А. Гриценко. Механизмы транспорта заряда в диэлектрических пленках, полученных методом атомно-слоевого осаждения

Устные доклады

А. А. Малыгин, М. В. Меш, Ю. С. Кольцов, А. М. Меш, В. В. Антипов, В. А. Вербо, Д. Ю. Волков, Д. С. Колоколов, М. Е. Компан, А. А. Малков, Е. А. Соснов. Разработка технологии изготовления и исследование электролюминесцентных структур, полученных методом молекулярного наслаивания

Alexander V. Safronov, Hima K. Lingam, David Roberts. Magnesocene materials as atomic layer deposition precursors (презентация)

В. В. Одиноков, В. В. Панин, Я. Г. Зассеев, В. А. Гвоздев, С. C. Зюзин, А. А. Резванов. Плазмо-стимулированное атомно-слоевое осаждение однокомпонентных диэлектрических сверхтонких пленок на установке «Изофаз ТМ 200-01» (презентация)

Rustam R. Amashaev, Abubakar M. Ismailov, Ilmutdin M. Abdulagatov, Aziz I. Abdulagatov. Molecular layer deposition of polyamide films on silicon with post–thermal treatment for 3C-SiC thin film synthesis (презентация)

M. G. Kozodaev, R. I. Romanov, A. G. Chernikova, A. M. Markeev. Atomic layer deposition of ultrathin tungsten oxide films for 2D WS2 synthesis (презентация)

A. G. Chernikova, R. R. Khakimov, M. G. Kozodaev, Yu. Yu. Lebedinskii, A. M. Markeev. Atomic layer deposition of Ru/RuO2 electrodes for the improvement of HfO2-based ferroelectric memory stacks

Е. Н. Козлов, С. А. Молчанов, Н. А. Морозова. Исследование газоплотного покрытия из оксида алюминия (презентация)

П. А. Федоров, Д. В. Назаров, И. С. Ежов, В. А. Толмачев, М. Ю. Максимов. Молекулярное наслаивание тонких пленок системы Та – О (стенд)

Д. В. Назаров, И. С. Ежов, И. В. Митрофанов, Ю. А. Жарова, В. А. Толмачев, Л. А. Краева, Е. В. Рогачева, М. Ю. Максимов. Получение наночастиц серебра с использованием метода молекулярного наслаивания и исследование особенностей их роста и функциональных свойств (презентация)

Zeinab M. Gasanbekova, Ilmutdin M. Abdulagatov, Razin M. Ragimov, Magomed A. Khamidov, Abai M. Maksumova, Naida M. Abdullaeva, Aziz I. Abdulagatov. ALD-coated polypropylene hernia meshes to prevent mesh-related post-surgery complications (презентация)

Т. Ю. Карцева, М. В. Меш, Д. Ю. Волков. Получение светофильтров методом молекулярного наслаивания (презентация)

Д. С. Колоколов. Оптимизация электролюминесцентных дисплеев на основе ZnS:Mn методом молекулярного наслаивания

Л. К. Марков, А. С. Павлюченко, И. П. Смирнова, М. В. Меш, Д. С. Колоколов, А. П. Пушкарев. Наноструктурированные покрытия ITO/Al2O3 (презентация)

Д. Ю. Волков, В. А. Вербо, Д. С. Колоколов, М. В. Меш. Влияние температуры процесса и отжига на свойства тонких пленок ZnS

В. А. Вербо, Ю. С. Кольцов, М. В. Меш. Разработка метода контроля дефектности диэлектрических слоев, полученных методом молекулярного наслаивания (презентация)

В. Е. Кусов, И. В. Корепанов, К. Т. Аккулева, Н. В. Захарова. Формирование смешанных титан-ванадийоксидных пленок методом молекулярного наслаивания для газовых сенсоров (презентация)

Е. О. Дроздов, Д. В. Бузина, С. Д. Дубровенский, А. А. Малков. Циклический синтез ванадийоксидных систем на поверхности кремнезема методом молекулярного наслаивания (презентация)

Gabriele Botta, Paolo Vavassori, Mato Knez. Magnetic nanoarrays by atomic layer deposition and electron beam lithography

Oksana Yurkevich, Iva Šarić, Eugeny Modin, Mladen Petravić, Mato Knez. Smart hybrid materials obtained by vapor phase infiltration (презентация)

Karina Ashurbekova, Kristina Ashurbekova, Arbresha Muriqi, Leire Barandiaran, Borja Alonso-Lerma, Iva Šarić, Evgenii Modin, Raul Perez-Jimenez, Mladen Petravić, Michael Nolan, Mato Knez. Antibacterial and biocompatible biomimetic metallochitin thin films grown by molecular layer deposition (презентация)

Kristina Ashurbekova, Karina Ashurbekova, Marco Gobbi, Ilmutdin Abdulagatov, Mato Knez, Aziz Abdulagatov. Ultrathin dielectric films by ring-opening molecular layer deposition of cyclic siloxane (презентация)

D. E. Petukhova, M. S. Lebedev. Formation, chemical structure and optical properties of atomic layer–deposited ScxTi1−xOy thin films (презентация)

M. S. Lebedev. HfxSc1−xOy and HfxSm1−xOy films: ALD growth, chemical structure and properties (презентация)

Абай М. Максумова, Ильмутдин М. Абдулагатов, Азиз И. Абдулагатов. Химия поверхности и атомно-слоевое осаждение пленок TixMoyOz с использованием TiCl4, MoOCl4 и H2O (презентация)

Jorge A. Velasco, Jihong Yim, Emma Verkama, Riikka L. Puurunen. Atomic layer deposition from atmospheric pressure to ultra-high vacuum: analysis with a diffusion–reaction model of feature-scale conformality

R. L. Puurunen, Yu. Koshtyal, J. Sundqvist, J. R. van Ommen, O. Yurkevich. Virtual Project on the History of ALD in perspective: past, present, and final steps (презентация, видео, ссылка)

И. С. Бодалёв, Н. А. Куликов, А. А. Малков, А. А. Малыгин, В. А. Силин, П. Ю. Ященко. Влияние хром‑, титан‑, ванадий‑, фосфороксидных нанодобавок на термические превращения многокомпонентной керамической массы (презентация)

А. Ю. Шевкина, Д. А. Ефименко, А. А. Малыгин. Фосфорсодержащий силикагель как аккумулятор тепловой энергии (презентация)

П. В. Роговский. О температуре поверхности катализатора, полученного методом молекулярного наслаивания, в реакции окисления орто-ксилола (презентация)

Стендовые доклады

Vladislav Yu. Vasilyev. Features of atomic layer deposition of silicon dioxide thin films (стенд)

Ю. К. Ежовский. Корреляционный анализ в прогнозировании химических реакций на поверхности твердых тел

А. В. Москалев, А. А. Малыгин. Перспективы метода молекулярного наслаивания при создании оптических покрытий (стенд)

N. I. Rumyantsev, I. S. Bodalyov, A. V. Golub. Inhibition of abnormal grain growth in cemented carbide by molecular layering of vanadium(V) oxide (стенд)

A. Podurets, M. K. S. Barr, M. Osmolowsky, N. Bobrysheva, J. Bachmann, O. Osmolovskaya. Application of atomic layer deposition for controlled synthesis of photocatalytic core–shell nanoparticles based on SnO2

И. С. Ежов, Д. В. Назаров, И. В. Митрофанов, П. С. Вишняков, А. М. Румянцев, Ю. М. Коштял, Rajesh Kumar, А. А. Попович, М. Ю. Максимов. Молекулярное наслаивание системы Ni – Mn – O в качестве анода токопленочных литий-ионных аккумуляторов

Д. Д. Коробов, В. А. Чернявский, И. С. Ежов, А. А. Попович, М. Ю. Максимов. Влияние покрытий Ta – O, полученных методом молекулярного наслаивания, на электрохимические характеристики Li-rich катодов

И. В. Митрофанов, Д. В. Назаров, И. С. Ежов, А. Ким, П. С. Вишняков, А. М. Румянцев, Ю. М. Коштял, А. А. Попович, М. Ю. Максимов. Молекулярное наслаивание тонкопленочных анодов системы Ni – Al – O для литий-ионных аккумуляторов

Д. В. Назаров, И. В. Митрофанов, М. Ю. Максимов, П. А. Федоров, Е. В. Борисов, В. Ш. Суфияров, А. А. Попович. Модифицирование поверхности титана и нитинола методами химического травления и молекулярного наслаивания